温水循环装置

可以在+40℃~+80℃的温度范围内,进行±0.5℃以下的高精度加热温控。
可作为成型机、半导体制造装置的温水循环、装置开发中的精准热负荷源使用。
可根据加热器输出及泵能力等方面的要求,进行各种定制。